真空鍍膜機已經普及到各行各業，大部分彩色物體都是通過鍍膜來完成的。真空鍍膜系統用于真空鍍膜產品。在現有的真空鍍膜系統中，由于鍍膜材料濃度上升緩慢，低濃度霧化鍍膜材料的鍍膜效率低，導致鍍膜時間長，而高濃度霧化鍍膜材料的鍍膜時間短，但會造成大量浪費。涂層本身用于改變工件的表面特性。為了使工件表面獲得多種不同的性能，往往需要對工件進行多次涂覆。因此，需要在不同的涂布機之間轉換涂布的工件，以獲得不同的涂層，從而導致時間的浪費。此外，多次轉換使得效率低并且涂覆方法麻煩。在此基礎上，提出了一種真空鍍膜系統。

　　針對上述現有技術的不足，本實用新型要解決的技術問題是提供一種真空鍍膜系統，解決鍍膜時浪費時間的問題，從而使鍍膜方式簡單，提高工作效率。為了解決上述技術問題，本實用新型采用以下技術方案：一種真空鍍膜系統，其特征在于，包括鍍膜架、鍍膜室、中央處理器和控制裝置；涂布架和中央處理器均位于涂布室內，控制裝置設置在涂布室外；真空鍍膜系統還包括鍍膜裝置，鍍膜室內設有多個鍍膜裝置。優選地，涂覆框架的一側連接有進料裝置。真空鍍膜系統控制裝置還分別與噴漆室、噴涂裝置和溶劑儲存裝置連接，噴漆室分別與噴涂裝置和溶劑儲存裝置連接。真空鍍膜系統中的溶劑儲存裝置的一側連接有排放裝置。真空鍍膜系統使用的進料裝置的進料口設置有用于涂覆材料的加熱裝置。電磁閥也布置在進料口。優選地，電磁閥是單向電磁閥。真空鍍膜系統加熱裝置為加熱線圈，加熱線圈與控制裝置連接?？刂蒲b置包括控制器和馬達。多弧電鍍的蒸發源一般為圓餅，俗稱圓餅靶，也有矩形多弧靶。磁鐵安裝在靶座上，通過前后移動磁鐵改變磁場強度，可以調節弧斑的移動速度和軌跡。為了降低靶和墊板的溫度，冷卻水應該連續引入墊板。為了確保靶和背板之間的高導電性和導熱性，還可以在靶和背板之間添加錫墊圈。

　　本實用新型真空鍍膜系統具有避免涂層氣體污染，提高涂層質量，涂層方式簡單，提高涂層效率，提高涂層材料利用率，節約能源的優點。