一種真空鍍膜系統裝置的制作方法
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- 作者:
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- 發布時間:2021-09-16
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【概要描述】 真空鍍膜系統是在真空條件下對薄膜器件進行鍍膜的設備。為了提高生產效率,真空鍍膜系統通常有輸送待涂覆的基材或裝載有多個待涂覆基材的載板?,F有軋輥一般為金屬軋輥,采用圓柱形整體金屬結構。待鍍基板或載體與金屬滾筒接觸,由滾筒驅動實現傳動。待鍍基板或載體的電流通過金屬輥傳導至腔體,實現鍍膜放電。然而,待鍍基板或載體與金屬輥相切,兩者硬接觸,使得待鍍基板或載體在傳輸過程中振動。結果,待鍍基板或載體被劃
一種真空鍍膜系統裝置的制作方法
【概要描述】 真空鍍膜系統是在真空條件下對薄膜器件進行鍍膜的設備。為了提高生產效率,真空鍍膜系統通常有輸送待涂覆的基材或裝載有多個待涂覆基材的載板?,F有軋輥一般為金屬軋輥,采用圓柱形整體金屬結構。待鍍基板或載體與金屬滾筒接觸,由滾筒驅動實現傳動。待鍍基板或載體的電流通過金屬輥傳導至腔體,實現鍍膜放電。然而,待鍍基板或載體與金屬輥相切,兩者硬接觸,使得待鍍基板或載體在傳輸過程中振動。結果,待鍍基板或載體被劃
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真空鍍膜系統是在真空條件下對薄膜器件進行鍍膜的設備。為了提高生產效率,真空鍍膜系統通常有輸送待涂覆的基材或裝載有多個待涂覆基材的載板?,F有軋輥一般為金屬軋輥,采用圓柱形整體金屬結構。待鍍基板或載體與金屬滾筒接觸,由滾筒驅動實現傳動。待鍍基板或載體的電流通過金屬輥傳導至腔體,實現鍍膜放電。然而,待鍍基板或載體與金屬輥相切,兩者硬接觸,使得待鍍基板或載體在傳輸過程中振動。結果,待鍍基板或載體被劃傷甚至磨損,待鍍基板或載體與金屬輥線接觸,接觸面積小,導電率慢,導電性差,影響了鍍膜放電的穩定性,鍍膜效果差,不能滿足大容量、大電流、高成品率的工藝要求。
因此,有必要提供一種真空鍍膜系統裝置來解決鍍膜效果和鍍膜放電穩定性差的問題。一種真空鍍膜系統裝置,包括真空室、固定在真空室中的導電機構和多個輥機構,真空室具有輸送方向,多個輥機構沿輸送方向排列,每個輥機構包括一驅動單元和輥,一驅動單元具有穿過真空室側壁的一輸出軸,導電機構包括二驅動單元、導電部以及多個接地片。導電部與二驅動單元傳動連接,導電部具有可與載板接觸的導電面。真空鍍膜系統每個接地帶的一端固定到二驅動單元,并且當處于鍍膜狀態時與導電部分電連接,而另一端固定到真空室,并且當處于鍍膜狀態時與真空室電連接,并且具有收縮狀態和膨脹狀態。在一個實施例中,導電部包括多個導電塊,沿輸送方向排列在導電板遠離波紋管的一側,每個導電塊與導電板扣合,遠離導電板的一端具有臺階,臺階包括一表面、二表面和連接一表面和二表面的三表面, 在一個實施例中,加強板設置在導電板和頂桿之間,加強板的延伸方向平行于輸送方向,導電板和頂桿固定連接。
在真空鍍膜系統裝置中,一驅動單元工作,一輸出軸驅動下輥旋轉,使輥上的載板沿輸送方向進入真空室。在承載板被傳送到真空室中的適當位置之后,二驅動單元操作以驅動導電部分和接地帶朝向承載板移動,并且接地帶展開,使得導電部分的導電表面接觸承載板,并且電流通過導電部分從承載板傳導到接地帶,然后被引入真空室。
綜上所述,真空鍍膜系統的一驅動單元驅動滾筒繼續旋轉,從而實現位于滾筒上的載板輸出完成蒸發;滾輪上設置有至少一個環繞一輸出軸的緩沖環,使得載板與滾輪之間存在軟接觸,減小載板與滾輪之間的硬接觸范圍,減小載板在傳動過程中的振動,減少載板的劃傷甚至磨損,保證鍍膜效果和產品良率。由于真空鍍膜系統載板的導電面在涂層放電時與載板接觸,載板與導電部分表面接觸,導電接觸面積更大,導電速率更快,導電性更好,涂層放電穩定性更好,涂層效果更好,能夠滿足大容量、大電流、高成品率的工藝要求。
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